정승일 산업통상자원부 차관은 15일 오후 경기도 화성시 소재의 반도체·디스플레이용 소재기업인 동진쎄미켐을 방문했다.
이날 정 차관의 방문은 새해 첫 현장 방문으로 반도체 핵심소재 중 하나인 포토레지스트의 국내 생산 기업 임직원들을 직접 격려하고, 현장 목소리를 청취하기 위해 이뤄졌다.
금번 방문대상 기업인 동진쎄미켐은 EUV포토레지스트의 바로 前 단계인 반도체용 ArF-immersion(불화아르곤 액침) 포토레지스트를 국내 최초(‘10년)로 개발․생산한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업이다.
올해 1분기중에 KrF(불화크립톤), Arf(불화아르곤) 등 포토레지스트 생산공장 증설을 착공할 예정이다. 증설공장이 계획대로 완공 후 내년 초 정상가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확대 생산하게 된다.
포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용된다. 반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(불화크립톤, 248nm), ArF(불화아르곤, 193nm), EUV(극자외선, 13.5nm)용 등으로 구분되며, 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.
당초 포토레지스트는 일본으로부터의 수입에 의존하여 왔으나, 일본의 수출규제 이후, 對日 수입 의존도를 낮춰 공급안정성을 빠르게 확보해 나가고 있다.
현재 벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등으로 수입국을 다변화하고 있고, 듀폰으로부터 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위한 한국 투자(2.8천만불, ‘20~’21)를 확정(‘20.1.9) 받아 국내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행해 나갈 계획이다.
국내 기술개발, 양산평가 등을 통해 포토레지스트의 국내 기술력을 확보해 나갈 예정이다.
정 차관은 “작년 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과, 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되어 가고 있다”면서 “올해 1분기 내 동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다. 흔들림 없이 기술개발에 매진해 온 임직원에게도 감사한다”고 밝혔다.
이어 정 차관은 첨단 포토레지스트 기술개발에 있어서도 지원을 아끼지 않을 계획임을 언급하며 “올해를 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼겠다. 대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다”고 강조했다.
임중권 기자 im9181@kukinews.com
