[쿠키뉴스] 송병기 기자 =삼성전자가 시스템 반도체 글로벌 1위 달성을 목표로 2030년까지 133조원을 투자하는 ‘반도체 비전 2030’ 일환으로 평택에 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 파운드리 생산라인 구축에 나선다.

삼성전자는 EUV 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산시설을 구축한다고 21일 밝혔다.

이에 앞서 지난 2월 삼성전자는 EUV 전용 화성 V1 라인을 가동에 돌입했다. 삼성전자는 평택까지 파운드리 라인을 구축해 모바일과 HPC(High Performance Computing), 인공지능(AI) 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대하며 시스템 반도체 분야 글로벌 1위 달성 전략을 본격화한다.

회사 측은 “이번 투자는 작년 4월 발표한 반도체 비전 2030 관련 후속 조치의 일환으로, 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다”면서 “이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획”이라고 설명했다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 것으로 회사 측은 전망했다.

또한 삼성전자는 화성에서 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산한다는 계획이다. 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 말했다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다. 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.

앞서 지난해 4월 삼성전자는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발, 생산시설 확충에 133조원을 투자하고 전문인력 1만5000명을 채용한다는 ‘반도체 비전 2030’을 제시했다. 이를 통해 삼성전자는 2030년까지 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다고 밝힌 바 있다.

반도체 비전 2030 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 연구개발(R&D) 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 전망됐다. 

[용어] EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 노광 기술=EUV는 기존 불화아르곤(ArF)을 대체할 수 있는 차세대 광원. 파장의 길이가 불화아르곤(ArF)의 1/14 미만에 불과해 보다 세밀한 반도체 회로 패턴 구현에 적합하고, 복잡한 멀티 패터닝 공정을 줄일 수 있어 반도체의 고성능과 생산성을 동시에 확보할 수 있음.

songbk@kukinews.com