
재료연구원, 수소 희석률 제어로 저온 공정 유연 광소자 개발
한국재료연구원(KIMS, 원장 최철진) 에너지·환경재료연구본부 권정대 박사팀이 수소 희석률을 정밀 제어하는 기술로 90℃ 저온 공정에서도 결함이 적은 비정질 실리콘 유연 광소자 개발에 성공했다. 기존 250℃ 이상의 고온 공정에서만 가능했던 고품질 박막 형성을 60% 이상 낮은 온도에서 구현함으로써 열에 약한 유연 기판에도 안정적으로 적용할 수 있는 길을 열었다. 이 기술은 플라즈마 PECVD 공정 중 수소와 실레인 가스 비율을 최적화해 박막 결함을 최소화하고 전기적 성능을 높였다. 특히 포토레지스트(PR)를 희생... [강종효]