테스트칩 생산 성공으로 삼성전자는 최첨단 EUV 초미세 전공정 뿐만 아니라 후공정에서도 첨단 기술 경쟁력을 갖추게 됐다.
반도체 공정은 크게 전공정과 후공정으로 나뉘는데 전공정은 웨이퍼에 회로를 만드는 과정, 후공정은 기판위에 만들어진 회로들을 외부와 접속할 수 있게 연결하는 등 패키지를 하는 과정으로 이해하면 된다.
테스트칩은 스마트폰용 애플리케이션프로세서(AP) 등 시스템반도체를 만드는 초기 단계의 칩이다.
삼성전자는 "이번 테스트칩 생산 성공으로 반도체 비전 2030을 달성하는 데 큰 역할을 할 것으로 기대한다"고 했다.
'엑스 큐브'는 전공정을 마친 웨이퍼 상태의 복수 칩을 위로 얇게 쌓아 하나의 반도체로 만드는 기술이다.
시스템반도체는 일반적으로 CPU·GPU·NPU 등의 역할을 하는 로직(logic) 부분과 캐시메모리(Cache memory) 역할을 하는 SRAM 부분을 하나의 칩에 평면으로 나란히 배치해 설계한다.
'엑스 큐브' 기술은 로직과 SRAM을 단독으로 설계 및 생산해 위로 적층하기 때문에 전체 칩 면적을 줄이면서 고용량 메모리 솔루션을 장착할 수 있다. 고객의 설계 자유도를 높일 수 있다는 말이다.
또 실리콘관통전극(TSV, Through Silicon Via) 기술을 통해 시스템 반도체의 데이터 처리속도를 획기적으로 향상 할 수 있고 전력 효율도 높일 수 있다.
TSV는 와이어를 이용해 칩을 연결하는 대신 칩에 미세한 구멍을 뚫어 상단 칩과 하단 칩을 전극으로 연결하는 패키징 기술이다. 속도와 소비전력을 크게 개선할 수 있다.
'엑스 큐브' 기술은 또 위아래 칩의 데이터 통신 채널을 고객 설계에 따라 자유자재로 확장할 수 있고, 신호 전송 경로 또한 최소화할 수 있어 데이터 처리 속도 극대화할 수 있다는 장점이 있다.
이 기술은 슈퍼컴퓨터·인공지능·5G 등 고성능 시스템반도체를 요구하는 분야는 물론 스마트폰과 웨어러블 기기의 경쟁력을 높일 수 있는 핵심 기술로 활용될 것으로 삼성전자는 예상했다.
글로벌 팹리스 고객은 삼성전자가 제공하는 'X-Cube' 설계방법론(Design Methodology)과 설계툴(Design Flow)을 활용해 EUV 기술 기반 5, 7나노 공정 칩 개발을 바로 시작할 수 있다.
특히 이미 검증된 바 있는 삼성전자의 양산 인프라를 이용할 수 있어 개발 오류를 빠르게 확인하며 칩 개발 기간을 줄일 수 있다.
한편 삼성전자는 오는 16일부터 18일까지 온라인으로 진행되는 HPC·AI 등의 고성능 반도체 관련 연례 학술 행사인 '핫 칩스(Hot Chips) 2020'에서 'X-Cube'의 기술 성과를 공개할 계획이다.
강문수 삼성전자 파운드리사업부 마켓전략팀 전무는 "EUV 장비가 적용된 첨단 공정에서도 TSV 기술을 안정적으로 구현해냈다"며 "삼성전자는 반도체 성능 한계 극복을 위한 기술을 지속 혁신해 나가겠다"고 말했다.
eunsik80@kukinews.com
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